Wofly Technology는 원스톱 특수 가스 시스템 솔루션을 통해 재료 R&D 및 생산 체인 전반에 걸쳐 엔드투엔드 협업을 지원합니다.

특수 가스가 기반을 다지고, 코어와 체인이 함께 나아갑니다

2026년 9월 9일부터 11일까지 IICIE 국제 집적회로 혁신 박람회가 선전 세계 전시 컨벤션 센터(바오안)에서 개최되었습니다. "산업 간 통합 · 전 체인 협력: 독특한 칩 생태계 구축"이라는 주제로 열린 이번 행사는 칩 설계, 웨이퍼 제조, 패키징 및 테스트, 핵심 장비, 주요 재료를 포함한 전체 공급망을 다루었습니다. 반도체 재료는 산업 체인의 업스트림 부문을 차지합니다. 전자 특수 가스, 포토레지스트, 스퍼터링 타겟, CMP 재료는 장치 수율과 공정 노드를 직접 결정하며, 이들의 순도, 안정성, 공급 보안은 고급 공정의 돌파구를 위한 전제 조건입니다.

2026 IICIE 국제 집적회로 혁신 박람회

올해 IICIE는 IDM, 팹리스 기업, 웨이퍼 파운드리, OSAT, 반도체 장비 및 재료 제조업체를 한자리에 모았습니다. 60,000제곱미터 이상의 전시 면적을 자랑하는 이번 행사는 칩 설계, 웨이퍼 제조, 고급 패키징 및 테스트, 핵심 장비, 주요 재료 및 부품을 아우르는 엔드투엔드 제품 솔루션을 선보입니다. CIOE 중국 국제 광전자 박람회와 동시 개최되는 이번 행사는 "광전자 + 반도체" 슈퍼 전시 생태계를 조성하여 인공지능, 자동차 전자, 통신 및 컴퓨팅, 디스플레이, 신에너지 등 다운스트림 응용 분야의 전문 방문객을 유치하여 네트워킹 및 비즈니스 기회를 탐색하도록 합니다. 외부 기술 환경의 변화와 국내 대체 수요라는 이중적 배경 속에서 IICIE는 기술 검증, 공급망 매칭, 응용 구현에 이르기까지 국내 생산 반도체 재료, 장비, 부품을 위한 원스톱 플랫폼을 제공합니다. 업스트림 재료 회사, 미드스트림 제조업체, 다운스트림 최종 사용자 간의 심층적인 협력을 촉진함으로써, 이 행사는 국내 집적회로 산업 체인 및 공급망을 안정화하고 핵심 재료의 대량 생산 검증 및 생태계 성숙을 가속화하는 데 있어 랜드마크 역할을 합니다.

1. 특수 가스 운송: 우플리가 선도합니다

반도체 재료 연구 개발

재료 R&D 및 대량 생산 분야에서 전자 산업에 사용되는 실란(SiH₄), 포스핀(PH₃), 아르신(AsH₃), 암모니아(NH₃), 삼불화질소(NF₃)와 같은 특수 가스는 독성이 매우 강하고 인화성이 있으며 부식성이 높습니다. 이들은 가스원에서 공정 말단까지 전용 가스 공급 시스템을 통해 안전하고 지속적으로 고순도로 공급되어야 합니다. 국가 첨단 기술 기업인 선전 우플리 기술은 가스 응용 시스템 엔지니어링을 위한 원스톱 솔루션 제공업체로서 반도체 재료 생산 부문에 전문 서비스와 고품질 장비를 제공합니다.

2. 설계 및 납품: 원활한 원스톱 프로세스

특수 가스 전송 파이프라인 시스템

기술 컨설팅, 시스템 설계

공정 가스 목록, 가스 소비 지점 부하, 안전 구역부터 파이프라인 토폴로지에 이르기까지 우페이 기술은 PID 다이어그램, 자재 명세서, 다중 매체 시스템(벌크 가스, 전자 산업용 특수 가스, 고순도 화학 물질 포함)을 위한 클린룸 건설 사양을 제공하여 포괄적인 계획 및 시스템 설계를 제공합니다.

벌크 가스 배관

특수 가스 캐비닛 조립 — 자동 전환

독자적으로 개발한 완전 자동 특수 가스 캐비닛은 PLC를 제어 코어로, 터치스크린 HMI를 갖추고 있어 두 개의 실린더 간 자동 전환, 압력 모니터링, 누출 경보, 비상 차단 기능을 제공합니다. 실란(SiH₄) 및 포스핀(PH₃)과 같은 인화성, 폭발성, 고독성 가스의 밀폐 운송을 위해 설계되었습니다.

우플리 기술에서 제조한 특수 가스 캐비닛

밸브 및 피팅: 고순도 제어

WR1200 시리즈 압력 조절 밸브 및 MV4/MVH4 시리즈 다이어프램 밸브와 같은 고순도 제어 부품을 장착했으며, 밸브 본체는 316L 스테인리스 스틸로 제작되었으며 내부 표면은 전해 연마되었습니다. VCR 피팅 및 페룰 피팅과 결합된 이 부품들은 입자 수준과 금속 용출을 최소화하여 공정 요구 사항을 충족합니다.

우플리 기술 밸브 및 피팅

파이프 사전 제작, 2차 배관

현장 배관은 클린 사전 제작 작업장에서 절단, 자동 용접 및 퍼지되며, 레일 장착 용접을 사용하여 공정 장비 인터페이스로 재배선됩니다. 배관 용접 추적성 기록은 검증 가능하며 가스 순도 및 입자 제어에 대한 SEMI 표준을 충족합니다.

우플리 기술의 Class 1,000 클린룸

배기 가스 처리: 현장 정화

공정 배기 가스에서 완전히 반응하지 않은 SiH₄, PH₃, AsH₃와 같은 구성 요소를 처리하기 위해 국소 스크러버 배기 가스 처리 시스템이 설치되었습니다. 이 시스템은 연소, 스크러빙 또는 흡착을 사용하여 유해 구성 요소를 배출 기준을 충족하는 수준으로 분해하여 인력 및 환경의 안전을 보장합니다.

배기 가스 처리 장비

가스 혼합, 밸브 분배

반도체 재료 R&D를 위해 가스 믹서 및 밸브 매니폴드(VMB)를 제공합니다. 믹서는 N₂, Ar, H₂와 같은 캐리어 가스를 공정 레시피에 따라 반응 가스와 정밀하게 혼합하며, 밸브 매니폴드는 2차 배관 섹션의 여러 가스 배출구에 대한 독립적인 제어, 압력 모니터링 및 비상 차단을 가능하게 합니다.

VMB 밸브 박스 패널 디스플레이

설치 및 시운전; 시스템 테스트

현장 설치 완료 후, 우페이 기술은 헬륨 누출 테스트, 입자 크기 테스트, 수분 및 산소 함량 분석, 퍼지 및 교체를 수행하고 시스템 검사 보고서를 발행했으며, 턴키 인도를 완료하고 후속 운영 및 유지 보수 지원을 제공했습니다.

3. 함께 미래를 건설합니다

우플리 기술

반도체 재료 산업의 경쟁은 궁극적으로 모든 가스 공급, 모든 파이프라인, 모든 밸브 작동의 신뢰성에 달려 있습니다. "전 체인 협력"은 단순한 무역 박람회 주제가 아니라 업스트림 재료 제조업체, 미드스트림 장비 공급업체, 다운스트림 엔지니어링 서비스 제공업체가 표준, 인터페이스 및 공정 요구 사항에 대해 지속적으로 조정해야 합니다. 선전 우페이 기술은 가스 응용 시스템 엔지니어링에 계속 집중할 것입니다. 시스템 설계, 핵심 장비, 현장 설치, 테스트, 시운전 및 유지 보수에 대한 원스톱 기능을 활용하여 반도체 재료 R&D 및 대량 생산을 위한 안전하고 안정적이며 추적 가능한 가스 공급 기반을 제공하고, 산업 체인의 모든 당사자와 협력하여 독특한 반도체 생태계를 공동으로 구축할 것입니다.