가스가 어떻게 반도체 제조를 사용되는지

August 13, 2022
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반도체 산업은 거대한 글로벌 산업이며, 그것이 계속 매년 성장하며, 그것이 고청정도 가스에 대한 수요가 따라서 증가할 것이라는 것을 의미합니다.

고청정도 가스의 안정적인 공급을 가지는 것 특히 스마트 폰과 무인 자동차와 같은 어드밴스드 테크놀로지스에, 반도체 제조에 필수적입니다.

가스의 범위를 만드는 모든 단계에 있는 30 다른 가스 이상이 어떠한 산업에서 가장 폭넓게 사용된 것 중 하나를 이용했다는 것을 요구하면서, 집적 회로를 생산하는 과정은 매우 복잡합니다.

그것이 반도체의 전기 특성을 형성하도록 요구된 화학 반응을 생산할 수 있기 때문에, 가스는 반도체 제조의 주요 부분입니다. 그것의 복잡성 때문에, 제조 절차의 각각 단계에 사용된 가스는 바르게 반도체를 구성하도록 정확하고 정확할 필요가 있습니다.

반도체 산업의 지속적인 개발과 함께, 그 과정에서 사용된 가스는 또한 발달하고 있습니다. 사용된 코어 가스의 일부는 질소, 산소, 아르곤과 수소를 포함합니다. 우리는 깊이의 제조 절차에서의 그들의 역할에 대해 논의할 것입니다.

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질소

그것의 유용성과 자력으로 움직이지못함 때문에, 질소는 코어 가스가 반도체 제조공정의 각각 단계에 사용했다는 것 이지만, 그러나 그것의 주된 용도가 깨끗이하는 단계에 있습니다. 이 단계에서, 질소는 과정을 오염시킬 수 있는 다른 가스에게서 그들을 보호하기 위해, 기계와 도구에서 어떠한 산소도 제거하기 위해 각각 채널과 파이프 네트워크를 분출시키는데 사용됩니다.
게다가 대부분의 반도체 공장은 전체 과정에 질소의 큰 사용으로 인해 현장에 질소 발생 장치를 갖추고 있습니다. 더 중요하게, 첨단 스마트폰과 다른 기술의 생산과 함께, 그것은 큰 수요를 만족시키는 것을 하는 동안 비용 로우를 유지하도록 명령적입니다.
당신은 질소는 어떠한 잠재적 수분, 화학적인 오염 물질과 입자로부터 도구, 공간과 파이프를 떨어뜨린다고 말할 수 있습니다. 그것은 필수적 가스이며, 그것이 시작에서 그들이 사이트에 생성기를 설치하는 어떤 경이인 끝까지 과정 전반에 걸쳐 이용됩니다.

 

산소

당신도 알고 있듯이, 산소는 산화제이고 따라서 증착 반응을 생산하는 것은 필수적입니다. 그것은 디퓨젼 마스크와 같이, 그 과정에서 여러 요소를 위한 실리콘 산화층을 성장시키는데 사용됩니다.
산소가 반도체 제조를 위해 사용될 때, 가스는 어떠한 음란도 장치의 생산과 성능에 영향을 미치는 것을 예방하기 위해 초순도여야 합니다.
식각 공정 동안, 산소는 또한 발생된 어떠한 추가적 소재 폐기물도 제거하는데 사용됩니다. 그것은 또한 어떠한 에칭 패턴도 영구적이게 하는데 사용될 수 있습니다.
마침내, 산소는 또한 제품 품질을 바꿀 수 있는 산화 반응을 통하여 반응 가스류를 중립화하기 위해 돕습니다. 그러므로, 질소와 같이, 산소는 또한 어떤 오염도 발생하지 않는다는 것을 보증하기 위해 돕습니다.

 

아르곤

아르곤은 주로 자외선 리소그래피 레이저에서 증착과 식각 공정을 위해 사용되고, 가장 작은 그 반도체 칩 위의 패턴을 만드는데 사용됩니다.
필요한 실리콘 웨이퍼의 제조업 동안, 아르곤 가스는 고온 성장 방법 동안 어떠한 잠재적 산소와의 반응과 질소에게서 웨이퍼로 형성된 실리콘 결정을 보호하는데 사용됩니다.
아르곤이 또한 매우 불활성 가스이기 때문에, 그것은 금속 스퍼터링 기탁을 위한 비 반응성 환경을 제공하는데 사용됩니다. 때때로 질소의 반응은 너무 강하며, 그것이 질화금속의 형성으로 이어질 것입니다.
게다가 액체 아르곤은 가장 작고 가장 깨지기 쉬운 칩을 청소하기 위해 도구와 함께 사용됩니다.

 

수소

반도체 제조에서 수소의 사용은 더 높은 수요로 인해 증가할 수 있습니다. 특히 사진 석판술 단계에서, 수소는 수소화주석을 생산하기 위해 화학적 주석과 반응하는데 사용됩니다. 수소화주석은 비싼 광학 소자에 축적되도록 요구됩니다.
그것은 성막 공정에서, 그리고 또한 절차를 단련하는 것에 의한 표면 제조를 위해 실리콘과 실리콘 게르마늄의 에피택셜 증착을 위해 사용됩니다.
수소는 현존하는 얇은 필름을 변경하기 위해 새로운 산화층을 만드는데 사용됩니다. 이 과정은 고압력과 고온 환경에서 발생하며, 그것이 흐름 속도, 온도와 압력의 제어가 매우 중요한 것을 의미합니다.
이 과정에서 사용된 가스가 대단히 유독하기 때문에, 게다가 수소는 분해 통제를 돕기 위해 또한 도핑 단계에서 사용됩니다. 누출을 방지할 수 있는 장치에서 저장될 그들이 필요로 하는 각인각색.
디보란은 또한 도핑 공정에서 사용된 화학이지만, 그러나 열적 불안정 때문에, 그것이 수소가 그것을 안정시키는 것을 도울 필요가 있도록 천천히 분해될 것이세요.

 

일상 생활에서 반도체

반도체는 컴퓨터, 스마트폰, 텔레비전과 같은 모든 종류의 매일 장비에서, 그리고 또한 의학 장비, 군용 시스템과 많은 다른 애플리케이션과 같은 어드밴스드 테크놀로지스에서 사용됩니다.
그들은 우리의 일상 생활의 일부이고 그들이 우리가 매일 사용하는 장치에 존재하기 때문에 우리가 그들을 주목하지 않습니다. 반도체 없이, 우리는 많은 물건을 할 수 없을 것입니다. 반도체 기술의 개발과 함께, 그들은 더욱 믿을 만하고 지적이고 소형이게 될 것입니다.
통신, 교통과 엔터테인먼트로부터, 이것들은 반도체가 우리에 도움이 된 것 적은 부분 일 뿐입니다. 그들은 미래 기술과 혁신을 강화할 것입니다, 우리가 일할 수 있게 하면서 우리가 결코 상상하지 않았습니다.