반도체 산업에서 가스의 사용은 1950년대 초부터 1960년대까지 거슬러 올라간다. 반도체 제조 과정에서이 기체는 주로 반도체 재료를 청소하고 보호하는데 사용되는데 그 순수성과 품질을 보장합니다.가장 일반적으로 사용되는 기체 중 하나는 질소와 수소입니다.
반도체 기술 개발 및 제조 프로세스가 계속 개선됨에 따라 가스 수요가 증가했습니다.얇은 필름의 발각 및 퇴적과 같은 주요 공정에서 기체의 적용이 점차 증가했습니다., 그리고 플루오라이드 가스 (예: SF6) 와 산소가 일반적으로 사용 된 발각 및 퇴적 가스가되었습니다.1980 년에는 통합 회로의 개발과 그에 대한 수요의 증가로 가스 수요가 더 증가했습니다.수소는 수소 소화 및 수소 증기 퇴적 등 제조 과정에서 널리 사용되었습니다.반도체 장치의 크기가 계속 줄어들고 새로운 프로세스가 도입됨에 따라 고 순수 가스 및 특정 가스 수요가 증가했습니다.예를 들어, 극한 자외선 리토그래피 (EUV) 적용은 질소와 수소와 같은 극도로 고 순수 가스 사용을 요구합니다.
반도체 가스는 관련 제품의 개발에 따라 계속 증가하고 있습니다. 더 많은 제품으로 인해 점점 더 많은 제품이 밝혀지고 있습니다.그래서 가스 압축 해소에 사용되는 제품, 가스 탐지 제품 및 가스 누출 방지 제품은 압력 조절기, 가스 밸브, 가스 압력 측정기, 가스 누출 감지기 등이 등장했으며 그 역할은 다음과 같습니다.
압력 조절기: 압력 조절기는 가스 압력을 제어하는 데 사용되는 장치입니다. 일반적으로 조절 밸브와 압력 센서로 구성됩니다.압력 조절기는 고압 가스 입력을 받아 특정 애플리케이션 요구 사항을 충족시키기 위해 밸브를 조정하여 출력 가스 압력을 안정화합니다.압력 조절기는 산업, 제조 및 실험실, 반도체 산업 등에 널리 사용됩니다.가스 공급의 안정성과 안전성 확보.
가스 밸브:가스 밸브는 가스 흐름을 제어하고 가스 통로를 닫기 위해 사용됩니다. 일반적으로 가스 흐름을 열거나 닫는 켜고 끄는 기능이 있습니다. 다양한 유형의 가스 밸브가 있습니다.수동 밸브를 포함하여, 전기 밸브 및 공기 밸브. 그들은 가스 시스템의 흐름, 압력 및 가스 흐름 속도를 제어하는 데 널리 사용됩니다.
가스 압력 측정기:가스 압력 측정기는 기체의 압력 수준을 측정하는 데 사용됩니다.그들은 일반적으로 가스 시스템의 중요한 위치에 설치되어 압력 변화를 모니터링하고 안전 한계 내에 있는지 확인합니다.가스 압력 측정기는 산업, 제조 및 실험실에서 널리 사용되며 반도체 산업도 참여했습니다.
가스 누출 감지기:가스 누출 탐지기는 가스 시스템 내 누출 을 탐지 하기 위해 사용 된다. 가스 누출 의 존재 를 탐지 하고, 누출 사고 를 예방 하기 위해 신속 한 조치 를 취할 수 있도록 경보 를 울린다.가스 누출 탐지기는 산업에서 널리 사용됩니다, 화학, 석유 및 가스 애플리케이션 및 반도체 산업에도 참여했습니다.