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회사 뉴스 반도체 퍼니스 장비용 특수 가스 시스템에 대한 깊은 전문성

반도체 퍼니스 장비용 특수 가스 시스템에 대한 깊은 전문성

2026-07-20
반도체 퍼니스 장비용 특수 가스 시스템에 대한 깊은 전문성

하이테크 산업의 초석으로서 반도체 산업은 정밀 장비에 의존합니다그리고 SiC/TaC 코팅 퇴적 오븐은 재료 준비와 장치 포장에 매우 중요합니다.이 시스템의 안정성 및 정확성은 초고 순수 특수한 가스 공급에 크게 의존합니다.각 오븐 유형에 맞춘 맞춤형 가스 유통 및 공급 솔루션을 제공합니다..

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01크리스탈 성장 진공 오븐

크리스탈 성장은 예외적인 기체 순도를 요구합니다. 심지어 미세한 불순물이 결함을 유발할 수 있습니다.Ra ≤ 10 μin) 가 미세먼지 흡수를 최소화하기 위해모든 제조는 청정실 환경에서 청정실 의복을 입은 직원에 의해 수행됩니다. 파이프 절단에는 껍질 제거, 칸프링,고순도 질소 정화아르곤 보호 아래 궤도 자생 TIG 용접은 누출 및 오염이 없는 관절을 보장합니다.지능형 압력 조절과 통합 가스 정화 장치가 있는 고정도 질량 흐름 조절기 는 일관성 있는 결정 성장에 필요한 초고 순도를 유지합니다..

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02CVI 증기 퇴적 오븐

2,100°C까지의 온도에서 작동하는 CVI 오븐은 예외적인 가스 흐름 안정성과 균일성을 요구합니다.Wofly는 탄소 강철 (파우더 코팅) 또는 스테인레스 스틸 지지판으로 튼튼한 파이프 시스템을 설계합니다.융합 가스 라우팅은 배달 경로를 단축하고 체류 시간을 줄입니다.정밀 흐름 제어 시스템은 복잡한 CVI 프로세스 곡선과 일치하도록 프로필렌과 메탄과 같은 선행 물질을 정확하게 조절합니다.모든 밀폐는 스테인리스 스틸 또는 니켈 밀착을 사용합니다. 금속이 아닌 밀착은 엄격히 금지됩니다. 고온 누출 위험을 제거합니다.

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03SiC 및 TaC 코팅 퇴적 오븐

이 오븐은 하프늄 테트라클로라이드, 탕탈륨 펜타클로라이드 및 메탄을 포함한 공격적인 선행가스를 사용하여 1,500~2,000°C에서 작동합니다.와플리는 EP 등급 316L SS 파이프와 VCR 금속 표면 밀폐 장착 장치를 배포하여 죽은 공간을 제거하고 철저한 정화 청소를 가능하게합니다.특화된 증발 장치는 분말 전초 물질 (TaCl5, HfCl4) 을 지능형 비율 제어로 처리하여 정확한 메탄/수소 흐름 일치 (예를 들어, CH4 180 ml/min, H2 900 ml/min) 를 제공합니다.비상 대응 연결과 함께 통합된 GDS 가스 감지 시스템은 실시간 안전 모니터링을 제공합니다..

일방적 라이프 사이클 서비스 Wofly의 서비스는 프로젝트 전체 라이프 사이클을 포함합니다. 현장 조사 및 프로세스 분석, 맞춤 시스템 설계, 사전 제조 (최고 12m 용접 구간,운송 중 3m마다 지원), 현장 설치, 압력 / 누출 / 입자 / 순정 테스트 및 지속적인 캘리브레이션 및 유지 보수. 모든 시스템은 반도체 산업 표준에 따라 구축됩니다.

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반도체 기술이 발전함에 따라, Wofly는 지능적이고 정밀 수준의 특수 가스 솔루션에 계속 헌신합니다고성능의 오븐 작업.

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