반도체 시장이 성장함에 따라 순수성과 정확성의 기준이 더욱 엄격해집니다.반도체 제조의 품질을 결정하는 요소 중 하나는 공정에서 사용되는 가스입니다.이 기체는 제조 과정에서 여러 가지 역할을 합니다.
정밀 프로세스 제어
오염 방지
금속물질 증강
이러한 역할을 효과적으로 수행하려면 가스 공급 및 유통 시스템이 효율적이어야합니다.반도체 제조에 사용되는 가스 처리 시스템의 설계는 안정적이고 고품질의 반도체 생산을 보장하기 위해 견고한 부품과 맞춤형 조립 장치로 지원되어야합니다..
반도체 제조에 사용되는 가스
반도체 제조 과정은 공정의 다른 단계에서 다른 기체를 사용해야합니다.
질소, 수소, 아르곤 및 헬륨과 같은 일반적인 기체는 순수한 형태로 사용될 수 있지만 특정 프로세스에는 특수 혼합물이 필요할 수 있습니다.알로하이드와 탄화수소는 반도체 제조에 사용되는 특수 가스 중 일부입니다.이 가스 중 많은 것은 위험하거나 매우 반응성이 있으며 가스 시스템에 대한 구성 요소의 선택과 설계에 어려움을 초래할 수 있습니다.
몇 가지 예 를 살펴보자.
수소와 헬륨은 작은 원자 크기와 무게로 인해 파이프 및 부착 시스템에서 쉽게 누출 될 수 있습니다.
실란은 매우 연화성이 높고 공기 중에 자발적으로 불타 (자연 발화) 할 수 있습니다.
퇴적, 발각 및 방청 단계에 사용되는 질소 디플루오라이드는 환경에 누출되면 강력한 온실 가스가됩니다.
수소 플루오라이드 (해석 가스) 는 금속 파이프에 매우 부식적입니다.
트리메틸 갈륨과 암모니아는 처리하기가 어려울 수 있습니다. 온도와 압력 요구 사항의 작은 변동이 퇴적 과정에 영향을 줄 수 있습니다.
이러한 기체의 부정적인 영향을 최소화하기 위해 프로세스 조건을 제어하는 것은 시스템 설계 과정에서 최우선 과제여야합니다.제조 과정에서 AFK 대막 밸브와 같은 최고 품질의 구성 요소를 사용하는 것도 중요합니다..
시스템 설계 과제 해결
반도체 등급 기체는 대부분의 경우 높은 순도를 가지고 있으며, 굴착 및 퇴적 기체와 같은 제조 공정의 다양한 단계에서 무활성 조건을 제공하거나 반응을 강화합니다.그러한 기체의 누출 또는 오염은 부정적인 영향을 줄 수 있습니다.따라서, it is critical for the system components used to be hermetically sealed and corrosion resistant as well as have a smooth surface finish (electrolytic polishing) to ensure that there is no possibility of contamination and that an extremely high level of cleanliness can be maintained.
또한 이 가스 중 일부는 원하는 공정 조건을 달성하기 위해 가열 또는 냉각 될 수 있습니다. 잘 단열 된 구성 요소는 온도 조절을 보장합니다.최종 제품의 효율적인 성능에 중요한.
소스 입구에서 사용 지점까지 AFK의 다양한 구성 요소는반도체 청정실과 진공실에서 필요한 압력 및 흐름 조절.
반도체 공장에서 품질 구성 요소가있는 설계 시스템
품질 부품과 설계 최적화의 역할은 반도체의 정확한 제어와 안전한 제조에 중요합니다.사용 된 부품은 제조의 다른 단계에서 요구되는 다양한 공정 조건에 맞게 견고하고 누출이 없어야합니다..AFK의 고품질 밸브, 피팅, 조절기, 파이프 및 밀폐 브래킷은 다음과 같은 특징으로 특징입니다:
초고 순수성
누출이 없는 밀봉
온도 조절 단열
압력 조절
부식 저항성
전해질 닦기 처리
